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“可镁科学讲坛”第九十六期——90nmArF光刻胶和10-5 nm分辨率DSA光刻图形化材料的研发

2019年12月2日下午2點半,第九十六期“可鎂科學講壇”如期而至,本次講壇邀請到了來自複旦大學微電子學院的鄧海教授。作爲本次講壇的主講人,鄧海教授在泉港樓優爾報告廳爲我院師生帶來了一期題爲“90nmArF光刻膠和10-5nm分辨率DSA光刻圖形化材料的研發”的報告,很多對相關領域感興趣的師生前來聆聽。

本次报告,邓海教授首先就目前全球半导体行业的具体形式进行了详细的讲解,并对我国半导体行业面临的问题和不足之处一一展示。紧接着邓海教授引出了光刻胶和光刻材料在半导体行业中举足轻重的地位。90 nm-38 nm分辨率的ArF光刻胶是核心关键材料也是卡脖子材料,但是却完全依赖于进口。最后,邓海教授展示了他们团队成功开发出的ArF光刻胶,其产品性能已经与商用光刻胶相当。同时,邓教授课题组还研发了10-5 nm LS的DSA图形化材料,合成了一系列具有5 nm分辨率的DSA材料,有望在3 nm节点及以下的半导体工艺中得到应用。邓海教授的成果填补了国内空白,极大鼓舞了人心。

報告的最後,同學們就光刻膠的表征方式及性能的判定同鄧海教授進行了深入的探討交流。同學們受益匪淺,並獻上了熱烈的掌聲。第九十六期“可鎂科學講壇”圓滿地結束。

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